Il s'agit d'une garniture mécanique à double cartouche avec double équilibrage hydraulique adaptée aux services avec un fluide auxiliaire sous pression ou un fluide auxiliaire à la pression atmosphérique (voir limites de fonctionnement). Idéale pour les applications lourdes avec des liquides dangereux, à haute température et pression. Installation facile grâce au nouveau dispositif de positionnement Fluistrip et aux fentes de la bride qui s'adaptent aux différents presse-étoupe. Le manchon renforcé tolère un faux-rond plus important de l'arbre et s'adapte aux mélangeurs, sécheurs, broyeurs ainsi qu'à l'assemblage directement sur l'arbre de la pompe. Convient aux agitateurs à entrée par le haut, par le côté et par le bas, ainsi qu'aux fluides en phase gazeuse, dangereux, sales ou à haute viscosité.
Ce joint de cartouche peut remplacer le Fluiten CB3D.
Caractéristiques
- Joint doublement équilibré pour une meilleure performance, capable de tolérer des inversions de pression momentanées.
- Raccords de rinçage pour les systèmes auxiliaires (PLAN 52 ou PLAN 53) ou rinçage à partir d'une source externe (PLAN 54 ou PLAN 55).
- Bride fendue pour un montage plus flexible.
- Fluistrip : dispositif de positionnement pour une installation correcte et facile, à retirer après le montage mais avant la mise en route de la machine.
- Joint auxiliaire en graphite/carbure de silicium avec liquide de rinçage à l'extérieur des surfaces d'étanchéité afin d'éviter la surchauffe.
- Dispositif de pompage bidirectionnel pour le rinçage du liquide.
- Dispositif breveté d'entraînement à anneau rotatif du côté atmosphère avec des dimensions axiales réduites.
- Manchon plus épais pour tolérer des valeurs de faux-rond élevées et pour éviter les déformations lors de la maintenance et de l'assemblage.
- Le dispositif d'entraînement coulissant compense tout mouvement et maintient le contact avec l'anneau rotatif.
- Ressorts à l'extérieur du produit et profil de nettoyage pour une fiabilité accrue, même avec des produits visqueux qui cristallisent, ainsi que dans les processus qui nécessitent un nettoyage approfondi.
